詳解DOE平頂勻化光束整形
什么是DOE元件?
衍射光學(xué)元件(Diffractive Optical Elements, DOE)是一種基于光波衍射原理,通過微納階梯結(jié)構(gòu)或者液晶聚合物分子排布對光波前進(jìn)行精確調(diào)控的光學(xué)器件。其實現(xiàn)結(jié)構(gòu)分為刻蝕DOE與液晶聚合物DOE。

圖1 液晶聚合物DOE實物圖
此處以LBTEK麓邦DOE為例,麓邦已經(jīng)在微納光子學(xué)和光學(xué)裝備這個領(lǐng)域深耕多年,主要圍繞拓?fù)涔庾訉W(xué)、超表面位移測量、多焦點微納加工這些前沿方向,靠著自主的液晶微納光子學(xué)技術(shù),他們還建起了國內(nèi)第一條能規(guī)?;慨a(chǎn)的生產(chǎn)線,加上加工設(shè)備和成熟工藝,做出來的微納光學(xué)元件在設(shè)計靈活度、精度和穩(wěn)定性上都有保障。
在光束控制上,麓邦有高精度相位板、衍射透鏡、分束器等關(guān)鍵器件,能搞定光束勻化、波前整形、能量分配等各種場景需求。尤其是他們自研的勻化型 DOE 元件,用了相位調(diào)制和表面浮雕工藝,吸收率低、抗激光損傷能力強(qiáng),能把高斯光束高效整形得更均勻,特別適合可見光和近紅外波段、高能量密度的使用場景。
為什么要用DOE元件做光束整形?
體積小,重量輕,光路簡單,只需要一片DOE鏡片插入光路中即可完成整形需求;(無論是SLM空間光調(diào)制器、非球面勻化鏡頭體積都很大,微透鏡陣列只適合做大尺寸的勻化整形且需要多模光入射,勻化光纖需要配套激光器與特制的鏡頭)
極致的設(shè)計靈活性(形狀 / 分布任意定制);(可定制方形、矩形、圓形、三角形等多種形狀,復(fù)雜的圖案化、文字化均可)
整形精度更高加工效果更好

圖2 高斯光斑(左)和勻化光斑(右)加工后表面形貌
綜上,選擇 DOE 的根本原因:用最小體積、最高效率、最靈活設(shè)計,實現(xiàn)最精準(zhǔn)光場控制。它是單片元件替代復(fù)雜光學(xué)組的最優(yōu)解,尤其適合高功率、高精度、集成化的現(xiàn)代激光系統(tǒng)。
DOE的結(jié)構(gòu)與分類
1.1 石英刻蝕DOE
衍射光學(xué)元件(Diffractive Optical Elements, DOE)核心工作原理源于惠更斯-菲涅爾衍射理論:當(dāng)光波入射至DOE表面時,其表面的微米或亞微米級浮雕結(jié)構(gòu)對不同位置的光引入特定相位延遲,各點作為次波源發(fā)出的子波在傳播中發(fā)生干涉疊加,最終在目標(biāo)平面形成預(yù)設(shè)的光強(qiáng)分布,實現(xiàn)光束整形。
DOE的結(jié)構(gòu)通常為在石英、玻璃或聚合物基底上通過電子束刻蝕、激光直寫等微納加工技術(shù)制備的周期性或非周期性臺階狀、連續(xù)浮雕結(jié)構(gòu)。這些結(jié)構(gòu)等效于相位型衍射光柵,通過精確設(shè)計每個單元的形狀、深度與分布,可調(diào)控出射光的相位分布,實現(xiàn)高衍射效率(通??蛇_(dá)85%以上)與低雜散光。

圖3 石英刻蝕DOE微結(jié)構(gòu)與工藝流程示意圖
(不同高度的臺階,光通過的玻璃厚度不一樣,光程不一樣就產(chǎn)生了光程差(相位差),這種差異的組合就可以對光束能量分布進(jìn)行調(diào)制了)
1.2 聚合物液晶DOE
液晶衍射光學(xué)元件(Liquid Crystal Diffractive Optical Elements, LC-DOE)是一類特殊的衍射光學(xué)器件,它結(jié)合了液晶材料的電光特性與衍射光學(xué)原理。與傳統(tǒng)基于固定微納浮雕結(jié)構(gòu)的熔融石英或二元光學(xué)DOE不同,液晶DOE利用液晶分子的排列特性來實現(xiàn)對光波相位的調(diào)制。
液晶DOE器件一般為三明治結(jié)構(gòu),由兩層玻璃或石英基板夾一層um級的液晶功能薄膜層組成。制成鏡片形式的為固定排列的液晶分子結(jié)構(gòu),其相位和功能不可改變。

圖4 液晶DOE實拍圖(偏振片下能觀看到相位圖案)

圖5 液晶DOE勻化效果實測圖展示
1.3 兩種DOE參數(shù)解析對比

圖6 液晶與石英勻化DOE參數(shù)對比
1.4 DOE特點與使用
① 入射DOE的激光要求
激光波長與DOE設(shè)計波長一致
單模激光入射,M2<1.3(DOE的整形過程可以看作成一個精密調(diào)控轉(zhuǎn)化的過程,入射光的能量分布與整形光斑是一一對應(yīng)的,入射光束分布越規(guī)則,M2越接近1,轉(zhuǎn)換結(jié)果越精確,整形效果越好)
準(zhǔn)直平行光入射
功率低于損傷閾值
② 偏振特性
液晶DOE:隨機(jī)偏振
刻蝕DOE:無要求
③ 平頂光斑尺寸局限性(與衍射極限尺寸DL相關(guān))
液晶DOE:1.5DL-15DL
刻蝕DOE:1.5DL-8DL
④ 適用波長相關(guān)性:單波長,設(shè)計波長±5nm之內(nèi),盡可能一致
⑤ 液晶DOE與刻蝕DOE優(yōu)劣勢
液晶DOE:
優(yōu)勢:成本更低、制作周期更短、整形精度效果更優(yōu)(階數(shù)高)、紅外激光整形加工不二之選
劣勢:紫外光失效、高功率(≥2Kw)應(yīng)用不穩(wěn)定、對偏振有一定要求
刻蝕DOE:
優(yōu)勢:紫外-紅外寬波段均可應(yīng)用、純石英結(jié)構(gòu)適用高功率應(yīng)用
劣勢:成本高、加工周期長、最高16階(階數(shù)越高、加工難度越高、成本越高,液晶則無太大區(qū)別)
平頂勻化DOE的應(yīng)用介紹
1. 光伏領(lǐng)域-BC刻蝕開膜、TOPCon減薄、Si層激光氧化等
部分太陽能電池采用背接觸結(jié)構(gòu),將所有電極和導(dǎo)電路徑置于電池背面,以減少表面陰影遮擋,提高光電轉(zhuǎn)換效率。激光劃槽是這一工藝的關(guān)鍵步驟,但傳統(tǒng)高斯光斑劃槽易出現(xiàn)切邊不齊、深度不均、邊緣掛渣等問題,影響加工質(zhì)量。勻化光斑在激光劃槽中具顯著優(yōu)勢。它能確保能量密度一致,減少劃槽深度和寬度不均的問題;同時,通過均勻能量分布,減少邊緣缺陷和微裂紋,降低機(jī)械應(yīng)力,提升硅片的強(qiáng)度和可靠性。

圖7 平頂勻化DOE在太陽能電池領(lǐng)域的應(yīng)用
2. 半導(dǎo)體:晶圓鍵合與解鍵合、Low-k晶圓開槽、均勻照明等
常用的晶圓切割方式包括砂輪(或刀輪)切割、激光燒蝕切割、激光隱形切割等,其中激光切割的應(yīng)用越來越廣泛。激光切割也分為激光半切、激光全切、激光隱形切等工藝,激光開槽與砂輪切割結(jié)合的方式屬于激光半切的一種類型。在切割質(zhì)量方面,相比僅采用砂輪切割,激光開槽與砂輪切割結(jié)合的方式能夠有效控制晶圓切割的正崩,提升加工質(zhì)量,同時可將砂輪切割的速度提升 2~3 倍,從而大大提高加工效率。

圖8 平頂勻化DOE在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用
DOE使用注意事項與調(diào)試指南案例
1. DOE在使用過程中的注意事項
激光器波長與DOE設(shè)計波長必須匹配,最差不要超過±5m;
激光器光束質(zhì)量需M2<1.3,越接近1整形效果質(zhì)量越好;
進(jìn)入DOE的激光束必須是準(zhǔn)直光束;
DOE必須裝在X/Y可調(diào)的安裝架上,以保證入射光束與DOE同軸;
液晶DOE不可用在藍(lán)光與紫光激光下,液晶分子會失效。刻蝕DOE無影響;
2. DOE使用調(diào)試指南(后附調(diào)試光斑現(xiàn)象仿真參考圖)
案例說明:你在調(diào)試一套勻化DOE的激光加工系統(tǒng),加工系統(tǒng)如下圖所示,那么你的操作步驟如下:
探測儀器:光束質(zhì)量分析儀

圖9 平頂勻化DOE在激光加工光路中(LBTEK)
Step1: 不裝DOE,首先調(diào)節(jié)擴(kuò)束鏡的發(fā)散角,使光束焦點打在工作面上(強(qiáng)烈建議使用光斑分析儀觀察,不然只能通過點看火花粗布判斷)。判定標(biāo)準(zhǔn):光斑尺寸最小,火花最亮;
Step2: 調(diào)節(jié)放大倍率,擴(kuò)束后的準(zhǔn)直光斑尺寸與DOE設(shè)計時提要求的光斑尺寸盡可能一致。(可通過聚焦光斑尺寸計算,計算公式參考公眾號前幾篇文章)
Step3: 裝入帶有X/Y+旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)的DOE鏡架(如下圖)

圖10 一種X/Y+旋轉(zhuǎn)功能的鏡架(LBTEK)
Step4: 分別調(diào)節(jié)X/Y旋鈕,同時觀察聚焦光斑形態(tài),直至光斑形態(tài)略有方形,并對稱。若此時光斑不方,有點枕形或者桶形,則可能是入射光斑偏大或者偏??;
Step5:根據(jù)光斑形態(tài),適當(dāng)調(diào)節(jié)擴(kuò)束鏡放大倍數(shù)(需要配合調(diào)節(jié)發(fā)散角,因為倍數(shù)調(diào)節(jié)變了發(fā)散角旋鈕也需要對應(yīng)改變),觀察光斑變化情況,同時輔以X/Y調(diào)節(jié)直至光斑達(dá)到當(dāng)前可調(diào)節(jié)的最優(yōu)形態(tài);
Step6: 重復(fù)3-4步驟,直至光斑形態(tài)方正,邊緣銳利,能量分布均勻即可;
Step7: 鎖死調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。
3個核心:入射光束尺寸要與設(shè)計值一致、光束要準(zhǔn)直、DOE與入射光束要同心
常見調(diào)不好的原因:
激光器光束質(zhì)量差,導(dǎo)致勻化程度或者光斑形態(tài)不理想,調(diào)不好;
入射光束尺寸偏大或者偏??;
離焦,光斑位置不在焦面上;
DOE存在質(zhì)量問題;
激光器在不同功率下光束質(zhì)量不一致(例如有些激光器低功率下光束質(zhì)量較差,需要開到50%以上或者滿功率光束質(zhì)量才能滿足標(biāo)稱需求)
附錄:不同調(diào)試條件對勻化光斑的影響
① 波長偏離設(shè)計影響:波長偏離設(shè)計主要體現(xiàn)在液晶聚合物薄膜的鍍膜延遲量誤差,影響聚合物勻化DOE的衍射效率,過大的偏離誤差會導(dǎo)致出射光斑零級過強(qiáng)而不均勻(零級就是未被DOE調(diào)制產(chǎn)生衍射角度的光束,準(zhǔn)直入射DOE后準(zhǔn)直輸出,這部分占比整個光束能量極小,但因為是準(zhǔn)直光束,會被聚焦鏡聚焦成一個小焦點,能量密度較大。一般只有液晶DOE會存在這種現(xiàn)象,需要特別注意。表現(xiàn)為勻化光斑中心出現(xiàn)一個亮點)
② X/Y偏心影響:X/Y偏心主要體現(xiàn)為入射光斑未通過DOE通光孔徑中心,影響衍射光斑的均勻度,偏心嚴(yán)重會導(dǎo)致出射光斑光強(qiáng)分布不均勻。


圖11 勻化光斑隨入射光斑X/Y方向偏移變化
③ 輸入光束直徑:入射光斑大小需要與設(shè)計光斑尺寸符合,相差大會導(dǎo)致出射光斑四周光強(qiáng)過大或過小,影響最終勻化整形效果。

圖12 焦面衍射強(qiáng)度隨入射光斑半徑w變化
④入射光傾斜:入射光斑傾斜會導(dǎo)致入射光經(jīng)過的液晶聚合物膜層厚度增加,使延遲量發(fā)生變化從而影響衍射效率;入射光傾斜也會導(dǎo)致入射光經(jīng)過DOE時出現(xiàn)偏心而影響出射光斑均勻度。
⑤ 離焦影響:經(jīng)過設(shè)計的聚合物勻化DOE,只能在設(shè)計焦面上產(chǎn)生預(yù)期的勻化整形光斑,若偏離焦面會導(dǎo)致出射光斑強(qiáng)度分布不均勻。

圖13 焦面衍射強(qiáng)度隨工作距離z變化
總結(jié)
總的來說,本篇文章大致介紹了一下平頂勻化DOE鏡片的原理與應(yīng)用,大部分的篇幅都在介紹它的相關(guān)特性,旨在讓更多的朋友更深入的了解勻化DOE,更好的使用DOE,讓它發(fā)揮出應(yīng)有的價值,也為大家節(jié)省調(diào)試與研究的時間。
在寫這個類目內(nèi)容是時候,結(jié)合了很多以往經(jīng)驗,也梳理了很多相關(guān)產(chǎn)品,感覺很驚喜的是LBTEK的DOE衍射光學(xué)元件,技術(shù)確實很扎實。自主研發(fā)的光束勻化、整形方案都挺穩(wěn)定的,在激光加工、3D打印、精密檢測這些場景很實用。上周在慕尼黑光博會,還有朋友現(xiàn)場看了DOE勻化效果,國產(chǎn)光學(xué)真的越來越穩(wěn)了。
隨著激光加工的方式越來越成熟,我們能夠在效率與總質(zhì)量上突破的可選擇性越來越少,光束整形是為數(shù)不多的重要途徑之一了!不管是鋰電、半導(dǎo)體、光伏還是3D打印,大家都在擁抱光束整形帶來的變化,而DOE這種簡單、高效的整形方式無疑會成為未來光束整形眾多方式中的絕對主流。(本文來自微信公眾號“光啟航”)
武漢新特光電作為以色列Holo/Or在中國的授權(quán)官方合作伙伴,同時也是國產(chǎn)品牌LBTEK(麓邦)的戰(zhàn)略合作伙伴,能夠同時提供這兩大品牌的衍射光學(xué)元件(DOE)。在光場調(diào)控領(lǐng)域,無論是面向激光加工、3C電子、新能源電池加工、顯示及光學(xué)實驗系統(tǒng)等行業(yè),還是針對光束整形、分束、平頂光轉(zhuǎn)換等具體應(yīng)用,我們均可提供極具競爭力的光學(xué)解決方案,充分滿足科研及工業(yè)客戶多樣化的實驗與生產(chǎn)需求。了解產(chǎn)品詳情請查閱:https://www.sinteclaser.com/optical/beam-shaping.html和https://www.sinteclaser.com/optical/micro-optics.html
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